丨半导体行业丨温湿精控，工艺基石，半导体工艺设备温控解决方案

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丨半导体行业丨温湿精控，工艺基石，半导体工艺设备温控解决方案

发布时间：2025-08-14

【概要描述】光刻良率波动？显影均匀性不足？曝光精度偏差？高精度的THC温湿度控制正是关键所在！随着芯片导体工艺设备对温控要求日益增高，ORION好利旺凭借专业技术和丰富经验，为全球客户提供高精度THC解决方案。多年来，ORION好利旺致力于研发和生产高质量的温控设备，服务于多个行业，尤其在芯片导体工艺设备领域表现突出，本次推出半导体制造工艺的液体·气体温控产品，具有无氟化、小型化、高精度化的特点。

丨半导体行业丨温湿精控，工艺基石，半导体工艺设备温控解决方案

【概要描述】光刻良率波动？

显影均匀性不足？

曝光精度偏差？

高精度的THC温湿度控制

正是关键所在！

随着芯片导体工艺设备对温控要求日益增高，ORION好利旺凭借专业技术和丰富经验，为全球客户提供高精度THC解决方案。
多年来，ORION好利旺致力于研发和生产高质量的温控设备，服务于多个行业，尤其在芯片导体工艺设备领域表现突出，本次推出半导体制造工艺的液体·气体温控产品，具有无氟化、小型化、高精度化的特点。

分类：产品信息
作者：好利旺小编
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发布时间：2025-08-14 10:23
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半导体设备用高精度THC专家——ORION好利旺

光刻良率波动？

显影均匀性不足？

曝光精度偏差？

高精度的THC温湿度控制

正是关键所在！

随着芯片导体工艺设备对温控要求日益增高，ORION好利旺凭借专业技术和丰富经验，为全球客户提供高精度THC解决方案。
多年来，ORION好利旺致力于研发和生产高质量的温控设备，服务于多个行业，尤其在芯片导体工艺设备领域表现突出，本次推出半导体制造工艺的液体·气体温控产品，具有无氟化、小型化、高精度化的特点。

帕尔贴元件电流线性控制的特点

采用对帕尔贴元件电流线性控制方式，实现节能、精密和耐用。

ORION 好利旺

产品特点

与电流ON-OFF对比，最大节能60%

与电流ON-OFF对比，控制精度高。

由于减少了帕尔贴元件的温度应激（波动）和电力应激（波动），从而延长帕尔贴元件的使用寿命
采用抗热应激的帕尔帖元件（化学帕尔帖元件）
显示器功能（帕尔贴元件电流输出显示）有助于优化 PID 设置，从而延长帕尔贴元件（化学帕尔贴）的使用寿命。

与电流ON-OFF对比，使用寿命长。

化学药液精密温控机ETN·ETDM系列

- 帕尔贴式-

温度控制精度：±0.1 ℃

温度控制范围：5~60 ℃

冷却能力：250~950 W

加热能力：500~2000 W

温控流体：药液和超纯水

应用实例：清洗设备（蚀刻、晶片清洗、CMP清洗）

由于液体接触部分采用了全特氟龙材质的热交换器，可以直接控制药液温度。如需咨询详细信息，请联系销售办事处。

管式热交换器

薄板式热交换器

高精度液体温控机ETU系列

- 帕尔贴式-

温度控制精度：±0.03 ℃

温度控制范围：10~60 ℃

冷却能力：200~1400 W

加热能力：400~2000 W

温控流体：清水、纯水、乙二醇水溶液

应用实例：涂胶显影机温度控制、电子光刻设备、曝光设备、放置平台的温度控制。

非标定制：

①±0.01℃的高精度控制

②含氟液体温度控制

如需咨询详细信息，请联系销售办事处。

压缩空气精密温控机ACU系列

- 帕尔贴式-

温度控制精度：±0.01 ℃

温度控制范围：15~40 ℃（ACU2000B）

流量：30~2100 L/min

温控流体：压缩空气

应用实例：曝光机、电子光刻设备等

换气式恒温机APE系列

- 帕尔贴式-

温度控制精度：±0.05 ℃

温度控制范围：20~25 ℃

送风量：1.5~2.5 m³/min

温控流体：小型空间环境温控（洁净室内的局部空间）

应用实例：掩膜和晶片储存的温度控制、匀胶显影机腔体的温度控制

高精度恒温恒湿机＆精密空调(THC)PAP系列

- 热泵平衡控制-

温度控制精度：±0.05及以下 ℃

湿度控制精度：±0.5 %

温控、除湿、净化一体机

应用实例：超精密以及精密机床、曝光机·光刻机、涂胶显影机、精密测量、精密检测

如需咨询详细信息，请联系销售办事处。

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ORION

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